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방전전원 공급장치

소딕 방전가공 관련 제품의 「심장」 역할을 하는 방전전원장치와이어 방전가공기에서는 고속 가공에서 1000A의 전류를 1 마이크로 초 내에 흐르는 전원 회로와 전류를 제어하는 펄스 제어에 의해 펄스 전류를 반복하며 안정되게 발생시키고 있습니다. 또한 마무리 가공은 나노초 펄스 제어에 의해 펄스 전류를 반복, 안정적으로 발생하고 있습니다. 또한 형조 방전가공기는 전극이 줄어들지 않는 전극 무소모 가공을 하기 위해 펄스 폭과 전류 값을 최적으로 제어하는 펄스 제어장치에 의해 안정된 펄스를 발생시키고 있습니다. 이들을 총칭하여 방전전원이라고 하며 고성능의 원동력이 되고 있습니다. (1 나노초는 빛도 약 30cm 밖에 진행되지 않습니다.)

방전전원 공급장치에 관하여소딕 개발의 역사는 방전가공기의 심장인 방전전원장치의 개발에서 시작했습니다. 방전 가공 전극 사이에 절연액을 개재시킨 상태에서 2개의 전극 (가공용 전극과 가공할 공작물)에 전압을 인가하면서 2개의 전극 거리를 서서히 접근시켜 방전을 발생시킴으로써 이루어집니다. 이 방전 에너지에 의해 공작물이 용융, 기화 됨과 동시에 방전에 의해 발생하는 높은 압력으로 공작물 재료을 방전 발생 부분에서 날려 냅니다. 이 현상이 초당 수만 수십만 회 반복하여 방전 가공이 진행됩니다.다.)

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주요특징
방전 에너지의 공급방법, 공급시간, 전극 간 거리를 제어함으로써 방전 펄스를 제어하고 원하는 방전 가공 성능을 이끌어 낼 수 있습니다.
와이어 방전 가공
최신 디바이스를 채용한 "Smart Pulse" 방전제어 기술은 압도적인 성능을 자랑하는 고속 가공과 정밀 가공의 양립을 실현했습니다.
  • 1 마이크로 초 동안 1000A 이상의 높은 피크 전류를 변화 없이 발생시킨다. (TM 회로)
  • 1st 가공 진직 정밀도를 크게 향상시키는 "배부름 배나옴 제어"(타이코레스 제어)
  • 2nd 가공 면 거칠기 • 배부름 배나옴 양 • 코너 부 형상정밀도를 향상시키기 (TMP 제어)
  • 초고주파 디지털 펄스에 의한 마무리 회로 (Digital-PIKA-W 회로)
형조 방전 가공
  • 1 마이크로 초 ~ 수(数) 마이크로 초 사이에 정확하게 1 번부터 수(数)번 정도의 전류를 반복하여 고품위 마무리 면이 가능한 (SVC 회로)
  • 수십 마이크로 초 ~ 수(数) 밀리 세컨드의 비교적 긴 전류 펄스를 반복, 편차 없이 발생시킨다. (전극 무소모 회로)
  • 경면 가공을 실현하는 (PIKA 회로)
  • 이상 아크 방전을 방지하고 고속가공을 실현하는 방전 안정 가공시스템 (아크레스 PLUS)
응용되는 분야 • 관련 자료
형조 방전가공기, 와이어 방전가공기, 미세 홀가공기, 전자빔 장치 등 높은 에너지를 필요로 하는 당사 제품에 이 기술이 적용되어 있습니다.